- Danh mục
- Wassenaar – Danh mục hàng hóa và công nghệ lưỡng dụng – WA-LIST (25) 1
- Mục tương ứng của EU
- 6A004
a. Gương quang học (gương phản xạ) như sau:
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.a., Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) được đo theo ISO 21254-1:2011.
Lưu ý: Đối với gương quang học được thiết kế đặc biệt cho thiết bị quang khắc, xem 3B001.
1. 'Gương biến dạng được' có khẩu độ quang học hoạt động lớn hơn 10 mm và có bất kỳ đặc tính nào sau đây, và linh kiện, bộ phận được thiết kế đặc biệt dùng cho chúng,
a. Có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Tần số cộng hưởng cơ học bằng hoặc lớn hơn 750 Hz; và
2. Nhiều hơn 200 bộ truyền động; hoặc
b. Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) có bất kỳ giá trị nào sau đây:
1. Lớn hơn 1 kW/ cm2 khi sử dụng "laser sóng liên tục"; hoặc
2. Lớn hơn 2 J/ cm2 khi sử dụng xung "laser" 20 ns ở tần số lặp 20 Hz;
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.a.1.:
'Gương biến dạng được' là gương có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. a. Một bề mặt phản xạ quang học liên tục duy nhất được làm biến dạng động bằng cách tác dụng các mô-men xoắn hoặc lực riêng rẽ để bù méo dạng của dạng sóng quang học tới gương;
hoặc
b. Nhiều phần tử phản xạ quang học có thể được định vị lại riêng rẽ và động bằng cách tác dụng mô-men xoắn hoặc lực để bù méo dạng của dạng sóng quang học tới gương.
2. 'Gương biến dạng được' còn được gọi là gương quang học thích nghi.
2. Gương nguyên khối trọng lượng nhẹ có "mật độ tương đương" trung bình nhỏ hơn 30 kg/m2 và tổng khối lượng vượt quá 10 kg;
Chú thích:
6A004.a.2. không kiểm soát gương được thiết kế đặc biệt để định hướng bức xạ mặt trời cho các hệ thống heliostat trên mặt đất.
3. Kết cấu gương bằng "vật liệu tổ hợp" hoặc vật liệu xốp trọng lượng nhẹ có "mật độ tương đương" trung bình nhỏ hơn 30 kg/m2 và tổng khối lượng vượt quá 2 kg;
Chú thích:
6A004.a.3. không kiểm soát gương được thiết kế đặc biệt để định hướng bức xạ mặt trời cho các hệ thống heliostat trên mặt đất.
4. Gương được thiết kế đặc biệt cho bệ gương lái chùm tia được quy định tại 6A004.d.2.a. có độ phẳng λ/10 hoặc tốt hơn (λ bằng 633 nm) và có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
a. Đường kính hoặc chiều dài trục chính bằng hoặc lớn hơn 100 mm; hoặc
b. Có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Đường kính hoặc chiều dài trục chính lớn hơn 50 mm nhưng nhỏ hơn 100 mm; và
2. Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) có bất kỳ giá trị nào sau đây:
a. Lớn hơn 10 kW/cm2 khi sử dụng "laser sóng liên tục"; hoặc
b. Lớn hơn 20 J/cm2 khi sử dụng xung "laser" 20 ns ở tần số lặp 20 Hz;
b. Linh kiện quang học làm từ zinc selenide (ZnSe) hoặc zinc sulphide (ZnS) có độ truyền qua trong dải bước sóng vượt quá 3 000 nm nhưng không vượt quá 25 000 nm và có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. Thể tích vượt quá 100 cm3; hoặc
2. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 80 mm và độ dày (chiều sâu) vượt quá 20 mm;
c. Linh kiện "đạt chuẩn vũ trụ" dùng cho hệ thống quang học, như sau:
1. Linh kiện được giảm trọng lượng xuống nhỏ hơn 20 % "mật độ tương đương" so với phôi đặc có cùng khẩu độ và độ dày;
2. Chất nền thô, chất nền đã gia công có lớp phủ bề mặt (một lớp hoặc nhiều lớp, kim loại hoặc điện môi, dẫn điện, bán dẫn hoặc cách điện) hoặc có màng bảo vệ;
3. Phân đoạn hoặc cụm lắp ráp gương được thiết kế để lắp ráp trong không gian vũ trụ thành một hệ thống quang học có khẩu độ thu tương đương hoặc lớn hơn một quang cụ đơn có đường kính 1 m;
4. Linh kiện được chế tạo từ "vật liệu tổ hợp" có hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính, theo bất kỳ hướng tọa độ nào, bằng hoặc nhỏ hơn 5 × 10-6/K;
d. Thiết bị điều khiển quang học như sau:
1. Thiết bị được thiết kế đặc biệt để duy trì hình dạng bề mặt hoặc hướng của các linh kiện "đạt chuẩn vũ trụ" được quy định tại 6A004.c.1. hoặc 6A004.c.3.;
2. Thiết bị lái, bám, ổn định và căn chỉnh hộp cộng hưởng như sau:
a. Bệ gương lái chùm tia được thiết kế để mang gương có đường kính hoặc chiều dài trục chính lớn hơn 50 mm và có tất cả các đặc tính sau đây, và thiết bị điều khiển điện tử được thiết kế đặc biệt dùng cho chúng:
1. Hành trình góc tối đa bằng hoặc lớn hơn ±26 mrad;
2. Tần số cộng hưởng cơ học bằng hoặc lớn hơn 500 Hz; và
3. "Độ chính xác" góc bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) 10 μrad (microradian);
b. Thiết bị căn chỉnh hộp cộng hưởng có băng thông bằng hoặc lớn hơn 100 Hz và "độ chính xác" bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) 10 μrad;
3. Khung các-đăng có tất cả các đặc tính sau đây:
a. Góc quay tối đa vượt quá 5°;
b. Băng thông bằng hoặc lớn hơn 100 Hz;
c. Sai số chỉ hướng góc bằng hoặc nhỏ hơn 200 μrad (microradian); và
d. Có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 0,15 m nhưng không vượt quá 1 m và có khả năng đạt gia tốc góc vượt quá 2 rad (radian)/s2; hoặc
2. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 1 m và có khả năng đạt gia tốc góc vượt quá 0,5 rad (radian)/s2;
4. Không sử dụng;
e. 'Phần tử quang học phi cầu' có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học lớn hơn 400 mm;
2. Độ nhám bề mặt nhỏ hơn 1 nm (rms) với chiều dài lấy mẫu bằng hoặc lớn hơn 1 mm; và
3. Giá trị tuyệt đối của hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính nhỏ hơn 3 × 10-6/K ở 25 °C.
Chú thích kỹ thuật:
1. Trong phạm vi 6A004.e., 'phần tử quang học phi cầu' là bất kỳ phần tử nào được sử dụng trong hệ thống quang học mà bề mặt hoặc các bề mặt tạo ảnh của nó được thiết kế để khác với hình dạng của một mặt cầu lý tưởng.
2. Trong phạm vi 6A004.e.2., nhà sản xuất không bắt buộc phải đo độ nhám bề mặt trừ khi phần tử quang học được thiết kế hoặc chế tạo với mục đích đáp ứng hoặc vượt quá thông số kiểm soát.
Chú thích
6A004.e. không kiểm soát 'phần tử quang học phi cầu' có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
a. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học nhỏ hơn 1 m và tỷ số tiêu cự trên khẩu độ bằng hoặc lớn hơn 4,5:1;
b. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học bằng hoặc lớn hơn 1 m và tỷ số tiêu cự trên khẩu độ bằng hoặc lớn hơn 7:1;
c. Được thiết kế dưới dạng phần tử quang học Fresnel, mắt ruồi, dải, lăng kính hoặc nhiễu xạ;
d. Được chế tạo từ thủy tinh borosilicate có hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính lớn hơn 2,5 × 10-6/K ở 25 °C;
hoặc
e. Phần tử quang học tia X có khả năng phản xạ mặt trong (ví dụ: gương dạng ống).
Lưu ý: Đối với 'phần tử quang học phi cầu' được thiết kế đặc biệt cho thiết bị quang khắc, xem 3B001.
f. Thiết bị đo mặt sóng động có tất cả các đặc tính sau đây:
1. 'Tốc độ khung hình' bằng hoặc lớn hơn 1 kHz; và
2. Độ chính xác mặt sóng bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) λ/20 tại bước sóng thiết kế.
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.f., 'tốc độ khung hình' là tần số mà tại đó tất cả "điểm ảnh hoạt động" trong "mảng mặt phẳng tiêu" được tích phân để ghi lại hình ảnh do hệ quang học của cảm biến mặt sóng chiếu tới.
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.a., Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) được đo theo ISO 21254-1:2011.
Lưu ý: Đối với gương quang học được thiết kế đặc biệt cho thiết bị quang khắc, xem 3B001.
1. 'Gương biến dạng được' có khẩu độ quang học hoạt động lớn hơn 10 mm và có bất kỳ đặc tính nào sau đây, và linh kiện, bộ phận được thiết kế đặc biệt dùng cho chúng,
a. Có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Tần số cộng hưởng cơ học bằng hoặc lớn hơn 750 Hz; và
2. Nhiều hơn 200 bộ truyền động; hoặc
b. Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) có bất kỳ giá trị nào sau đây:
1. Lớn hơn 1 kW/ cm2 khi sử dụng "laser sóng liên tục"; hoặc
2. Lớn hơn 2 J/ cm2 khi sử dụng xung "laser" 20 ns ở tần số lặp 20 Hz;
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.a.1.:
'Gương biến dạng được' là gương có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. a. Một bề mặt phản xạ quang học liên tục duy nhất được làm biến dạng động bằng cách tác dụng các mô-men xoắn hoặc lực riêng rẽ để bù méo dạng của dạng sóng quang học tới gương;
hoặc
b. Nhiều phần tử phản xạ quang học có thể được định vị lại riêng rẽ và động bằng cách tác dụng mô-men xoắn hoặc lực để bù méo dạng của dạng sóng quang học tới gương.
2. 'Gương biến dạng được' còn được gọi là gương quang học thích nghi.
2. Gương nguyên khối trọng lượng nhẹ có "mật độ tương đương" trung bình nhỏ hơn 30 kg/m2 và tổng khối lượng vượt quá 10 kg;
Chú thích:
6A004.a.2. không kiểm soát gương được thiết kế đặc biệt để định hướng bức xạ mặt trời cho các hệ thống heliostat trên mặt đất.
3. Kết cấu gương bằng "vật liệu tổ hợp" hoặc vật liệu xốp trọng lượng nhẹ có "mật độ tương đương" trung bình nhỏ hơn 30 kg/m2 và tổng khối lượng vượt quá 2 kg;
Chú thích:
6A004.a.3. không kiểm soát gương được thiết kế đặc biệt để định hướng bức xạ mặt trời cho các hệ thống heliostat trên mặt đất.
4. Gương được thiết kế đặc biệt cho bệ gương lái chùm tia được quy định tại 6A004.d.2.a. có độ phẳng λ/10 hoặc tốt hơn (λ bằng 633 nm) và có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
a. Đường kính hoặc chiều dài trục chính bằng hoặc lớn hơn 100 mm; hoặc
b. Có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Đường kính hoặc chiều dài trục chính lớn hơn 50 mm nhưng nhỏ hơn 100 mm; và
2. Ngưỡng hư hại do laser gây ra (LIDT) có bất kỳ giá trị nào sau đây:
a. Lớn hơn 10 kW/cm2 khi sử dụng "laser sóng liên tục"; hoặc
b. Lớn hơn 20 J/cm2 khi sử dụng xung "laser" 20 ns ở tần số lặp 20 Hz;
b. Linh kiện quang học làm từ zinc selenide (ZnSe) hoặc zinc sulphide (ZnS) có độ truyền qua trong dải bước sóng vượt quá 3 000 nm nhưng không vượt quá 25 000 nm và có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. Thể tích vượt quá 100 cm3; hoặc
2. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 80 mm và độ dày (chiều sâu) vượt quá 20 mm;
c. Linh kiện "đạt chuẩn vũ trụ" dùng cho hệ thống quang học, như sau:
1. Linh kiện được giảm trọng lượng xuống nhỏ hơn 20 % "mật độ tương đương" so với phôi đặc có cùng khẩu độ và độ dày;
2. Chất nền thô, chất nền đã gia công có lớp phủ bề mặt (một lớp hoặc nhiều lớp, kim loại hoặc điện môi, dẫn điện, bán dẫn hoặc cách điện) hoặc có màng bảo vệ;
3. Phân đoạn hoặc cụm lắp ráp gương được thiết kế để lắp ráp trong không gian vũ trụ thành một hệ thống quang học có khẩu độ thu tương đương hoặc lớn hơn một quang cụ đơn có đường kính 1 m;
4. Linh kiện được chế tạo từ "vật liệu tổ hợp" có hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính, theo bất kỳ hướng tọa độ nào, bằng hoặc nhỏ hơn 5 × 10-6/K;
d. Thiết bị điều khiển quang học như sau:
1. Thiết bị được thiết kế đặc biệt để duy trì hình dạng bề mặt hoặc hướng của các linh kiện "đạt chuẩn vũ trụ" được quy định tại 6A004.c.1. hoặc 6A004.c.3.;
2. Thiết bị lái, bám, ổn định và căn chỉnh hộp cộng hưởng như sau:
a. Bệ gương lái chùm tia được thiết kế để mang gương có đường kính hoặc chiều dài trục chính lớn hơn 50 mm và có tất cả các đặc tính sau đây, và thiết bị điều khiển điện tử được thiết kế đặc biệt dùng cho chúng:
1. Hành trình góc tối đa bằng hoặc lớn hơn ±26 mrad;
2. Tần số cộng hưởng cơ học bằng hoặc lớn hơn 500 Hz; và
3. "Độ chính xác" góc bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) 10 μrad (microradian);
b. Thiết bị căn chỉnh hộp cộng hưởng có băng thông bằng hoặc lớn hơn 100 Hz và "độ chính xác" bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) 10 μrad;
3. Khung các-đăng có tất cả các đặc tính sau đây:
a. Góc quay tối đa vượt quá 5°;
b. Băng thông bằng hoặc lớn hơn 100 Hz;
c. Sai số chỉ hướng góc bằng hoặc nhỏ hơn 200 μrad (microradian); và
d. Có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
1. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 0,15 m nhưng không vượt quá 1 m và có khả năng đạt gia tốc góc vượt quá 2 rad (radian)/s2; hoặc
2. Đường kính hoặc chiều dài trục chính vượt quá 1 m và có khả năng đạt gia tốc góc vượt quá 0,5 rad (radian)/s2;
4. Không sử dụng;
e. 'Phần tử quang học phi cầu' có tất cả các đặc tính sau đây:
1. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học lớn hơn 400 mm;
2. Độ nhám bề mặt nhỏ hơn 1 nm (rms) với chiều dài lấy mẫu bằng hoặc lớn hơn 1 mm; và
3. Giá trị tuyệt đối của hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính nhỏ hơn 3 × 10-6/K ở 25 °C.
Chú thích kỹ thuật:
1. Trong phạm vi 6A004.e., 'phần tử quang học phi cầu' là bất kỳ phần tử nào được sử dụng trong hệ thống quang học mà bề mặt hoặc các bề mặt tạo ảnh của nó được thiết kế để khác với hình dạng của một mặt cầu lý tưởng.
2. Trong phạm vi 6A004.e.2., nhà sản xuất không bắt buộc phải đo độ nhám bề mặt trừ khi phần tử quang học được thiết kế hoặc chế tạo với mục đích đáp ứng hoặc vượt quá thông số kiểm soát.
Chú thích
6A004.e. không kiểm soát 'phần tử quang học phi cầu' có bất kỳ đặc tính nào sau đây:
a. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học nhỏ hơn 1 m và tỷ số tiêu cự trên khẩu độ bằng hoặc lớn hơn 4,5:1;
b. Kích thước lớn nhất của khẩu độ quang học bằng hoặc lớn hơn 1 m và tỷ số tiêu cự trên khẩu độ bằng hoặc lớn hơn 7:1;
c. Được thiết kế dưới dạng phần tử quang học Fresnel, mắt ruồi, dải, lăng kính hoặc nhiễu xạ;
d. Được chế tạo từ thủy tinh borosilicate có hệ số giãn nở nhiệt tuyến tính lớn hơn 2,5 × 10-6/K ở 25 °C;
hoặc
e. Phần tử quang học tia X có khả năng phản xạ mặt trong (ví dụ: gương dạng ống).
Lưu ý: Đối với 'phần tử quang học phi cầu' được thiết kế đặc biệt cho thiết bị quang khắc, xem 3B001.
f. Thiết bị đo mặt sóng động có tất cả các đặc tính sau đây:
1. 'Tốc độ khung hình' bằng hoặc lớn hơn 1 kHz; và
2. Độ chính xác mặt sóng bằng hoặc nhỏ hơn (tốt hơn) λ/20 tại bước sóng thiết kế.
Chú thích kỹ thuật:
Trong phạm vi 6A004.f., 'tốc độ khung hình' là tần số mà tại đó tất cả "điểm ảnh hoạt động" trong "mảng mặt phẳng tiêu" được tích phân để ghi lại hình ảnh do hệ quang học của cảm biến mặt sóng chiếu tới.
Nguyên văn tiếng Anh
a. Optical mirrors (reflectors) as follows:
Technical Note
For the purposes of 6.A.4.a., Laser Induced Damage Threshold (LIDT) is measured according to ISO 21254-1:2011.
a. 1. 'Deformable mirrors' having an active optical aperture greater than 10 mm and having any of the following, and specially designed components therefor:
a. Having all the following:
1. A mechanical resonant frequency of 750 Hz or more; and
2. More than 200 actuators; or
b. A Laser Induced Damage Threshold (LIDT) being any of the following:
1. Greater than 1 kW/cm² using a Continuous Wave "(CW) laser"; or
2. Greater than 2 J/cm² using 20 ns "laser" pulses at 20 Hz repetition rate;
Technical Notes
For the purposes of 6.A.4.a.1.:
1. 'Deformable mirrors' are mirrors having any of the following:
a. A single continuous optical reflecting surface which is dynamically deformed by the application of individual torques or forces to compensate for distortions in the optical waveform incident upon the mirror; or
b. Multiple optical reflecting elements that can be individually and dynamically repositioned by the application of torques or forces to compensate for distortions in the optical waveform incident upon the mirror.
2. 'Deformable mirrors' are also known as adaptive optic mirrors.
a. 2. Lightweight monolithic mirrors having an average "equivalent density" of less than 30 kg/m² and a total mass exceeding 10 kg;
a. 3. Lightweight "composite" or foam mirror structures having an average "equivalent density" of less than 30 kg/m² and a total mass exceeding 2 kg;
Note 6.A.4.a.2. and 6.A.4.a.3. do not apply to mirrors specially designed to direct solar radiation for terrestrial heliostat installations.
a. 4. Mirrors specially designed for beam steering mirror stages specified in 6.A.4.d.2.a. with a flatness of λ/10 or better (λ is equal to 633 nm) and having any of the following:
a. Diameter or major axis length greater than or equal to 100 mm; or
b. Having all of the following:
1. Diameter or major axis length greater than 50 mm but less than 100 mm; and
2. A Laser Induced Damage Threshold (LIDT) being any of the following:
a. Greater than 10 kW/cm² using a "CW laser"; or
b. Greater than 20 J/cm² using 20 ns "laser" pulses at 20 Hz repetition rate;
N.B. For optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3.B.1.
b. Optical components made from zinc selenide (ZnSe) or zinc sulphide (ZnS) with transmission in the wavelength range exceeding 3,000 nm but not exceeding 25,000 nm and having any of the following:
1. Exceeding 100 cm³ in volume; or
2. Exceeding 80 mm in diameter or length of major axis and 20 mm in thickness (depth);
c. "Space-qualified" components for optical systems, as follows:
1. Components lightweighted to less than 20% "equivalent density" compared with a solid blank of the same aperture and thickness;
2. Raw substrates, processed substrates having surface coatings (single-layer or multi-layer, metallic or dielectric, conducting, semiconducting or insulating) or having protective films;
3. Segments or assemblies of mirrors designed to be assembled in space into an optical system with a collecting aperture equivalent to or larger than a single optic 1 m in diameter;
4. Components manufactured from "composite" materials having a coefficient of linear thermal expansion, in any coordinate direction, equal to or less than 5 x 10⁻⁶/K;
d. Optical control equipment as follows:
1. Equipment specially designed to maintain the surface figure or orientation of the "space-qualified" components specified in 6.A.4.c.1. or 6.A.4.c.3.;
2. Steering, tracking, stabilisation and resonator alignment equipment as follows:
a. Beam steering mirror stages designed to carry mirrors having diameter or major axis length greater than 50 mm and having all of the following, and specially designed electronic control equipment therefor:
1. A maximum angular travel of ±26 mrad or more;
2. A mechanical resonant frequency of 500 Hz or more; and
3. An angular "accuracy" of 10 μrad (microradians) or less (better);
b. Resonator alignment equipment having bandwidths equal to or more than 100 Hz and an "accuracy" of 10 μrad or less (better);
d. 3. Gimbals having all of the following:
a. A maximum slew exceeding 5°;
b. A bandwidth of 100 Hz or more;
c. Angular pointing errors of 200 µrad (microradians) or less; and
d. Having any of the following:
1. Exceeding 0.15 m but not exceeding 1 m in diameter or major axis length and capable of angular accelerations exceeding 2 rad (radians)/s²; or
2. Exceeding 1 m in diameter or major axis length and capable of angular accelerations exceeding 0.5 rad (radians)/s²;
d. 4. Not used since 2014
e. 'Aspheric optical elements' having all of the following:
1. Largest dimension of the optical-aperture greater than 400 mm;
2. Surface roughness less than 1 nm (rms) for sampling lengths equal to or greater than 1 mm; and
3. Coefficient of linear thermal expansion's absolute magnitude less than 3x10⁻⁶/K at 25°C;
Technical Notes
1. For the purposes of 6.A.4.e., an 'aspheric optical element' is any element used in an optical system whose imaging surface or surfaces are designed to depart from the shape of an ideal sphere.
2. For the purposes of 6.A.4.e.2., manufacturers are not required to measure the surface roughness unless the optical element was designed or manufactured with the intent to meet, or exceed, the specified parameter.
Note 6.A.4.e. does not apply to 'aspheric optical elements' having any of the following:
a. Largest optical-aperture dimension less than 1 m and focal length to aperture ratio equal to or greater than 4.5:1;
b. Largest optical-aperture dimension equal to or greater than 1 m and focal length to aperture ratio equal to or greater than 7:1;
c. Designed as Fresnel, flyeye, stripe, prism or diffractive optical elements;
d. Fabricated from borosilicate glass having a coefficient of linear thermal expansion greater than 2.5x10⁻⁶/K at 25°C; or
e. An x-ray optical element having inner mirror capabilities (e.g., tube-type mirrors).
N.B. For 'aspheric optical elements' specially designed for lithography equipment, see 3.B.1.
f. Dynamic wavefront measuring equipment having all of the following:
1. 'Frame rates' equal to or more than 1 kHz; and
2. A wavefront accuracy equal to or less (better) than /20 at the designed wavelength.
Technical Note
For the purposes of 6.A.4.f., 'frame rate' is a frequency at which all "active pixels" in the "focal plane array" are integrated for recording images projected by the wavefront sensor optics.
LASERS
Technical Note
For the purposes of 6.A.4.a., Laser Induced Damage Threshold (LIDT) is measured according to ISO 21254-1:2011.
a. 1. 'Deformable mirrors' having an active optical aperture greater than 10 mm and having any of the following, and specially designed components therefor:
a. Having all the following:
1. A mechanical resonant frequency of 750 Hz or more; and
2. More than 200 actuators; or
b. A Laser Induced Damage Threshold (LIDT) being any of the following:
1. Greater than 1 kW/cm² using a Continuous Wave "(CW) laser"; or
2. Greater than 2 J/cm² using 20 ns "laser" pulses at 20 Hz repetition rate;
Technical Notes
For the purposes of 6.A.4.a.1.:
1. 'Deformable mirrors' are mirrors having any of the following:
a. A single continuous optical reflecting surface which is dynamically deformed by the application of individual torques or forces to compensate for distortions in the optical waveform incident upon the mirror; or
b. Multiple optical reflecting elements that can be individually and dynamically repositioned by the application of torques or forces to compensate for distortions in the optical waveform incident upon the mirror.
2. 'Deformable mirrors' are also known as adaptive optic mirrors.
a. 2. Lightweight monolithic mirrors having an average "equivalent density" of less than 30 kg/m² and a total mass exceeding 10 kg;
a. 3. Lightweight "composite" or foam mirror structures having an average "equivalent density" of less than 30 kg/m² and a total mass exceeding 2 kg;
Note 6.A.4.a.2. and 6.A.4.a.3. do not apply to mirrors specially designed to direct solar radiation for terrestrial heliostat installations.
a. 4. Mirrors specially designed for beam steering mirror stages specified in 6.A.4.d.2.a. with a flatness of λ/10 or better (λ is equal to 633 nm) and having any of the following:
a. Diameter or major axis length greater than or equal to 100 mm; or
b. Having all of the following:
1. Diameter or major axis length greater than 50 mm but less than 100 mm; and
2. A Laser Induced Damage Threshold (LIDT) being any of the following:
a. Greater than 10 kW/cm² using a "CW laser"; or
b. Greater than 20 J/cm² using 20 ns "laser" pulses at 20 Hz repetition rate;
N.B. For optical mirrors specially designed for lithography equipment, see 3.B.1.
b. Optical components made from zinc selenide (ZnSe) or zinc sulphide (ZnS) with transmission in the wavelength range exceeding 3,000 nm but not exceeding 25,000 nm and having any of the following:
1. Exceeding 100 cm³ in volume; or
2. Exceeding 80 mm in diameter or length of major axis and 20 mm in thickness (depth);
c. "Space-qualified" components for optical systems, as follows:
1. Components lightweighted to less than 20% "equivalent density" compared with a solid blank of the same aperture and thickness;
2. Raw substrates, processed substrates having surface coatings (single-layer or multi-layer, metallic or dielectric, conducting, semiconducting or insulating) or having protective films;
3. Segments or assemblies of mirrors designed to be assembled in space into an optical system with a collecting aperture equivalent to or larger than a single optic 1 m in diameter;
4. Components manufactured from "composite" materials having a coefficient of linear thermal expansion, in any coordinate direction, equal to or less than 5 x 10⁻⁶/K;
d. Optical control equipment as follows:
1. Equipment specially designed to maintain the surface figure or orientation of the "space-qualified" components specified in 6.A.4.c.1. or 6.A.4.c.3.;
2. Steering, tracking, stabilisation and resonator alignment equipment as follows:
a. Beam steering mirror stages designed to carry mirrors having diameter or major axis length greater than 50 mm and having all of the following, and specially designed electronic control equipment therefor:
1. A maximum angular travel of ±26 mrad or more;
2. A mechanical resonant frequency of 500 Hz or more; and
3. An angular "accuracy" of 10 μrad (microradians) or less (better);
b. Resonator alignment equipment having bandwidths equal to or more than 100 Hz and an "accuracy" of 10 μrad or less (better);
d. 3. Gimbals having all of the following:
a. A maximum slew exceeding 5°;
b. A bandwidth of 100 Hz or more;
c. Angular pointing errors of 200 µrad (microradians) or less; and
d. Having any of the following:
1. Exceeding 0.15 m but not exceeding 1 m in diameter or major axis length and capable of angular accelerations exceeding 2 rad (radians)/s²; or
2. Exceeding 1 m in diameter or major axis length and capable of angular accelerations exceeding 0.5 rad (radians)/s²;
d. 4. Not used since 2014
e. 'Aspheric optical elements' having all of the following:
1. Largest dimension of the optical-aperture greater than 400 mm;
2. Surface roughness less than 1 nm (rms) for sampling lengths equal to or greater than 1 mm; and
3. Coefficient of linear thermal expansion's absolute magnitude less than 3x10⁻⁶/K at 25°C;
Technical Notes
1. For the purposes of 6.A.4.e., an 'aspheric optical element' is any element used in an optical system whose imaging surface or surfaces are designed to depart from the shape of an ideal sphere.
2. For the purposes of 6.A.4.e.2., manufacturers are not required to measure the surface roughness unless the optical element was designed or manufactured with the intent to meet, or exceed, the specified parameter.
Note 6.A.4.e. does not apply to 'aspheric optical elements' having any of the following:
a. Largest optical-aperture dimension less than 1 m and focal length to aperture ratio equal to or greater than 4.5:1;
b. Largest optical-aperture dimension equal to or greater than 1 m and focal length to aperture ratio equal to or greater than 7:1;
c. Designed as Fresnel, flyeye, stripe, prism or diffractive optical elements;
d. Fabricated from borosilicate glass having a coefficient of linear thermal expansion greater than 2.5x10⁻⁶/K at 25°C; or
e. An x-ray optical element having inner mirror capabilities (e.g., tube-type mirrors).
N.B. For 'aspheric optical elements' specially designed for lithography equipment, see 3.B.1.
f. Dynamic wavefront measuring equipment having all of the following:
1. 'Frame rates' equal to or more than 1 kHz; and
2. A wavefront accuracy equal to or less (better) than /20 at the designed wavelength.
Technical Note
For the purposes of 6.A.4.f., 'frame rate' is a frequency at which all "active pixels" in the "focal plane array" are integrated for recording images projected by the wavefront sensor optics.
LASERS